귀주 신소재 생산용 저온 냉동기

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콘스티튜트가 생산하는 산업 온도 제어 설비는 고온형(5℃～35℃), 중온형(-5℃～-40℃), 저온형(-40℃～-80℃), 초저온형(-150℃～-80℃), 냉열 겸용(-150℃～+300℃) 등 계열 제품은 귀사가 선택할 수 있도록 제공됩니다.냉방량 크기는 모두 있는데 방폭형, 방부형, 지렛대식, 변주파형 등이 있다.비표준 맞춤법을 적용합니다.온도 안정성 ±0.1℃ 등 선택 사항.

귀주 신소재 생산용 저온 냉동기적용 대상:

1. 고온 합성 설비의 냉각과 열 균형

장면: 화학 기상 퇴적 (CVD는), 물리적 기상 퇴적 (PVD는) 등의 설비는 그래핀, 탄화규소, 질화갈륨 등 박막 재료를 제조할 때 반응실이 수 고온을 유지해야 한다.

냉각 장치의 역할:

캐비티 및 부품 보호: 반응실의 외벽, 전극, 진공펌프와 밀봉부품에 지속적인 냉각을 제공하여 과열로 인한 손상을 방지하고 설비가 장기적으로 안정적으로 운행되도록 확보한다.

공정 온도를 제어하려면 다음과 같이 하십시오. 서로 다른 지역의 온도를 정확하게 제어함으로써 반응이 좋은 열역학 조건에서 진행되도록 보장함으로써 고품질, 균일한 박막을 얻을 수 있다.

부산물 포집: 저온 냉각 함정 (냉각 설비에서 냉량을 제공함) 을 사용하여 공정 과정에서 발생하는 유해하거나 가치 있는 부산물을 응축하고 포집한다.

2. 결정 생장

장면: 반도체 단결정 실리콘, 사파이어 결정, 레이저 결정 등의 성장.

냉각 장치의 역할:

제어 응고 인터페이스: 직라법 또는 구융법에서 제어가열기와 냉각시스템의 배합을 통해 결정체의 온도계도와 응고속도를 정확하게 제어하는데 이는 저결함, 대형단결정을 획득하는 관건이다.

냉각로체: 와CVD는설비가 유사하여 고온 난로체와 그 부속 설비를 보호한다.

3. 고분자 재료 중합 반응

장면: 일부 중합반응 (예를 들면 합성공정플라스틱, 고무) 은 강한 방열반응으로서 만약 열량이 제때에 이동하지 못하면 반응이 통제력을 잃고 분자량의 분포가 고르지 못하며 심지어 폭발이 발생하기도 한다.

냉각 장치의 역할:

이동반응열: 반응솥의 클램프나 내판관을 통해 일정한 저온냉각수를 제공하여 반응체계의 온도를 정확하게 통제하여 반응이 평온하고 제품의 성능이 일치하도록 확보한다.

4. 金属快速凝固/비결정합금 제조

장면: 블록형 비결정합금 등 신형 금속재료를 제조할 때는 고온 용융금속을 높은 냉각속도(초당 백만도)로 냉각시켜 그 원자가 질서 있게 배열되지 않고 비결정 구조를 형성하도록 해야 한다.

냉각 장치의 역할:

높은 냉각 속도 제공: 구리롤러 또는 기타 급랭장치에 대량의 류량, 저온의 냉각매체를 제공하는것은 쾌속응고를 실현하는 필수조건이다.