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성미반도체설비(상해)주식유한회사
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가장자리 습식 설비

협상 가능업데이트02/15
모델
제조업체의 성격
생산자
제품 카테고리
원산지 Place of Origin
개요
성미 상하이의 변두리 습법 각식 설비는 3D NAND, DRAM 및 첨단 논리 공정을 포함한 다양한 부품과 공정을 지원하며, 습법 각식 방법을 사용하여 웨이퍼 변두리의 각종 전매질, 금속 및 유기 재료 필름, 입자 오염물을 제거한다.
제품 정보

가장자리 습식 설비

  

주요 이점

웨이퍼 가장자리의 여러 가지 서로 다른 중첩 박막층의 각식 세척에 사용되며, 선진 공정의 웨이퍼 가장자리의 양률을 높인다

고정밀도, 고정폭 크기 조절 가능

자체 기술은 더욱 정확하고 효율적인 웨이퍼 조준을 할 수 있으며, 제어 정밀도가 높고 균일성이 높으며, 정확한 가장자리 부식을 실현할 수 있다

높은 생산능력, 낮은 화학품 소모

장비 및 프로세스를 10nm 이하의 프로세스 기술 노드로 확장 가능

하층 재료에 대한 각식은 높은 선택비를 가지고 있으며, 웨이퍼에 손상이 없는 특징이 있다

뛰어난 웨이퍼 가장자리 세척 능력, 더 나은 입자 제어

재혼합 슬라이스, 본딩 슬라이스, 슬림 슬라이스 등 다양한 라이닝 소재에 유연하게 적용 가능


특징 및 사양

12인치 웨이퍼 가장자리 세척용

최대 4개의 Lord Port

12개 프로세스 캐비티 구성 가능

진공 클러치 는 웨이퍼 를 끼워 넣는다

웨이퍼 뒷면 가장자리를 세척할 수 있으며, 최대 5가지 약액을 장착하여 세척 공정을 진행할 수 있다

각 캐비티는 고정밀 웨이퍼 쌍 중앙을 구성합니다.

고정밀 웨이퍼 테두리 감지 장치 구성 가능