마스크 없는 레이저 직사 시스템

PicoMaster ATE-100 마스크 없는 레이저 직사 포토레지스트

● 250nm 해상도(375nm 레이저 소스)

● 300nm 해상도(405nm 레이저 소스)

● 4095 그레이스케일

● 업계 홀로그램 디자인 소프트웨어 세트

● 최대 125x125mm 기판 크기

405나노 다이오드 레이저를 사용하는 PicoMaster 100은 시장에서 가장 작은 300나노 레이저 해상도를 자랑합니다.375나노 레이저 소스를 업그레이드하면 시중에 나와 있는 I-line 포토레지스트와 더 잘 호환되어 더 높은 수준의 응용 수요를 만족시킬 수 있다.예비 광학 모듈은 기계의 정지 시간을 크게 줄일 것이다.더욱 인간적인 소프트웨어 디자인은 사용자의 실제 운영 효율을 크게 향상시켰으며, 그것은 당신의 과학 연구, 실험 개발, 디자인 혁신, 이상적인 광학 파트너가 될 것입니다.PicoMaster 100은 반도체 광각, LED 칩, 마이크로 흐름 제어 칩, 마이크로 나노 구조, 그레이스케일 광각, 3D 가공, 홀로그램 영상 등 다양한 분야에 널리 응용된다.

PicoMaster 100 마스크 없는 레이저 직접 쓰기 시스템 성능 사양

«PicoMaster 100 노출광일정에 일부 세대만 나열됨직접 쓰기 정밀도를 나타내는 것은 아닙니다.모든 치수

«PicoMaster 100 노출 시간 테이블의 동작 매개변수는 모두 입니다.표준 설정

«PicoMaster 100은자동 수치 구경 스위치, 윤사용자가 낮은 분별을 선택할 수 있음속도, 쓰기 속도 향상

PicoMaster에는 프로젝트 관리자 및 장치 컨트롤러와 같은 두 개의 Windows 기반 애플리케이션이 포함되어 있습니다.•장치 컨트롤러가 작업을 처리하고 기계를 제어할 때 프로젝트 관리자는 사용자가 기능을 선택하고 이미지를 처리할 수 있도록 합니다.•프로젝트 관리자는 독립적으로 이미지를 동적으로 처리하는 특징이 있어 작업 전 준비 시간을 줄일 수 있습니다.•장치 컨트롤러를 사용하면 운영자가 프로젝트 작업을 대기열 생성, 프로젝트 진행 모니터링 및 고급 수동 제어 기능을 제공할 수 있습니다.

•PicoMaster 장치 컨트롤러의 특징:

•작업을 즉시 처리하다.

• 작업 대기열.

•자유롭게 정의할 수 있는 프로세스 및 노출 레시피입니다.

•히스토리 데이터베이스를 확장합니다.

•원격 작업을 지원합니다.