듀폰 부식액

200여년의 끊임없는 혁신을 거쳐 듀폰회사는 새로운 탐색발견시대에 진입하고있다.과학 연구자, 엔지니어, 선견지명자 및 모든 파트너를 포함한 우리 공동체는 매일 힘을 합쳐 각종 가능성을 현실 세계의 제품과 해결 방안으로 바꾸어 인류 사회의 왕성한 발전을 촉진한다.듀폰이 더 나은 세상을 만들기 위해 어떻게 노력하고 있는지 알아보십시오.

특징:

zui jia의 금속 스택 무결성 개발

넓은 창 처리 성능 개선

식각 잔여물 제거 강화

세척된 마스크는 화학 잔류를 감소시킨다

대용량 집적회로(ULSI)급 사양* 패키징 세척

작동 온도에서 낮은 증발 속도

적용:

EKC270 적용™식각 후 잔류 물질은 주요 청정 요구 사항을 충족하기 위해 반도체 산업에 널리 사용됩니다.

종횡비 MEMS 장치 100μm+* D램에 70nm 통합되는 단계까지

다음은 일반적인 응용 프로그램입니다.

• 접촉 청결

• 금속선 청소

• TSV 딥 실리콘 천공 청소

• 텅스텐 매립선 세척

• 폴리아미드 세척

• Pad 청소

• MEMS 청소