탄갱 하수 처리 지렛대 설비

탄갱 하수 처리 지렛대 설비광정수 직여과 기술 활용:

광정수 직여과 기술은 처리 과정에서 혼합제, 응결제를 첨가하지 않고 원수가 직접 처리장치에 들어가 원수의 석탄가루, 모래와 자갈 등 부유물을 제거하는 것으로, 여과된 정수는 서로 다른 환경보호 수요에 따라 직접 외부로 배출하거나 후속 심층처리시스템에 진입하는 등을 취할 수 있다.

선택된 강옥막 여과 장치는 고도로 표준화, 집적화, 모듈화된 여과 시스템이다.필름 부품을 병렬 형식으로 필름 더미로 병합하고, 몇 개의 필름 더미로 하나의 필름 단원을 구성한다.필름 유닛에 외곽 부대 설비를 더하여 필터 세트 설비를 구성하고, 약간의 필터 세트 설비에 공용의 반세척, 세척, 공기 세척, 완전성 검측, 자동화 제어 시스템 등을 더하여 하나의 완전한 필터 장치를 구성한다.수량, 건설 환경에 따라 조합할 수 있다.현재 공경 0.1um의 공경을 선택하여 여과 정밀도가 높고 출수 부유물이 1mg/L 이하이며 탁도는 0에 가깝다.

탄갱 하수 처리 지렛대 설비일부 전용 장치:

액체 고체 분리 탈수 설비: MCF 부선 기둥은 오늘날의 역류, 미세 거품 부선 기둥의 장점을 모은 고효율 석탄 세척 전용 부선 기둥으로 개발되었다.예비처리기를 거친 광장은 부선기둥의 꼭대기 아래로부터 약 1~2m 떨어진 곳에서 공급되며, 광물 입자는 중력과 부력의 작용하에 광산에서 침강 운동을 한다.순환펌프는 펄프의 고속 흐름을 이끌어 발생하는 미세 기포가 부력 작용하에 상승 운동을 하고, 상승하는 기포와 침강하는 광립이 부선주 포획구역에서 접촉하여 충돌하며, 소수성 광립은 포획되어 기포에 부착되고, 부상하여 기둥 꼭대기에 모여 두께가 1m에 달하는 광화 거품층 (정선구역) 을 형성한다.거품층에 물줄기를 씻어 섞여서 거품층에 들어가는 친수성 불순물을 제거하여 정광의 고품위를 한층 더 높인다.미광은 부선주 바닥에서 액위 제어 장치를 통해 배출된다.

MCF 부선 기둥은 구조가 간단하고 공정 절차가 짧으며 자동화 정도가 높은 장점을 가지고 있으며, 세립자급 광물에 대해 다른 부선 설비에 비해 더 좋은 선별 효과를 가지고 있으며, 종종 다른 유형의 부선 설비보다 더 높은 품위의 정광을 선택할 수 있다.