ICP-OES MICS 시리즈 전체 스펙트럼 직독형 감지 결합 플라즈마 발사 분광기

1. 제품 소개

ICP-OES MICS 시리즈 전체 스펙트럼 직독형 센싱 결합 플라즈마 송신 분광기, 신뢰할 수 있는 성능의 통합 고체 무선 주파수 전원, 견고한 항온 2차원 분광 시스템, 과학 연구급 냉방 오버플로우 방지 CCD 검사 시스템, 국내 최고의 스펙트럼 보정 기술을 결합하여 ICP OES MICS의 조작성, 유연성 및 신뢰성을 상상을 초월하여 일상적인 조작과 유지보수가 매우 간단하고 지능적인 스펙트럼, 더욱 편리한 국내선 (Inter.)

ICP-OES MICS 시리즈 전체 스펙트럼 직독형 전감 결합 플라즈마 발사 분광기, 광범위한 응용 가능

환경보호, 식품안전, 지질광산, 야금, 고색금속, 희토류, 화학공업, 우상의약, 석유제앙, 반도체, 농업연구 등 각 분야.서로 다른 물질 중의 상량, 미량, 씬 원소 함량을 측정하는 데 사용되며, 샘플 중의 원소의 정성, 반정량 및 정밀 정량 분석에 사용할 수 있으며, 검출 제한은 10억분의 1급에 달한다.

2. 성능 지표

검출기:

고효율 반도체 냉각의 CCD 고체 검출기는 분광기 파장 범위 내에 연속 화소를 가지고 있어 임의로 파장을 선택할 수 있으며 천연적인 오버플로우 방지 기능 설계를 가지고 있다.

검출 유닛: 3000000개 이상의 검출 유닛, 읽기 속도 ≥ 2MHz.

픽셀 해상도: ≤ 0.003nm.

검출기 냉각 시스템: 가장 낮은 검출기 암전류를 얻기 위해 고효율 3단 반도체 냉각을 사용한다.

작동 온도: ≤-45 ℃, 작동 온도에 도달하는 시간: <3 분.

광학 시스템: 항온 공기 흡입형 중계단 분광 시스템.

단색기: 중계단 울타리와 프리즘 2차원 색산 시스템, 높은 에너지, 계기 테스트의 안정성을 보장하기 위해 울타리와 프리즘 등 내광로 부품의 위치가 고정되어 움직이지 않고 분광기의 전 파장 범위 내에서 한 번의 노출과 동시에 모든 원소를 측정한다.

광실: 정밀 광실 항온 38 ℃ ± 0.1 ℃, 아르곤 가스 또는 질소를 사용하여 광실 청소를 할 수 있으며, <200nm 스펙트럼 선 측정 시 공기 흡입량 <3L/min.

파장 범위: 167-1000nm, 전체 파장 덮어쓰기.

광학 해상도(FHW): As189.042nm 반봉 너비 <0.007nm, Ca393.366nm 반봉 너비 <0.017nm, Ba614.172 반봉 너비 <0.024nm, K766.490nm 반봉 너비 <0.035nm는 광학 시스템의 안정성과 최적의 광선속을 보장하기 위해 초점거리는 280mm이다.

플라즈마:

플라즈마 관찰 방식: 횃불 파이프 수직 배치

RF 발생기: 고체 발생기, 플라즈마 코일은 폴리테트라 플루오로에틸렌 보호층 설계, 부식 방지, 유지 보수 면제.

주파수: 27.12MHZ.

RF 전력 ≥ 1300W.

가스 회로 제어: 냉각 가스, 보조 가스, 안개 가스를 포함하여 ICP-OES 소프트웨어가 직접 제어하는 고정밀 품질 트래픽 컨트롤러 3번을 구성합니다.정밀도 0.01L/min.

웜 펌프: 5채널 16 롤러 웜 펌프.

성능 분석:

분석 속도: ≥ 분당 50개의 원소 또는 스펙트럼 선, 그리고 각 측정 스펙트럼 선의 적분 시간 ≥ 10초;

샘플 소모량: <2ml, 70개 이상의 원소 측정;

스펙트럼 선 유연성: 분석 요소의 모든 스펙트럼 선을 정성, 반정량 및 정량 분석할 수 있어 분석 연구에 편리하다.

스펙트럼 선의 선형 동적 범위 측정: ≥ 106 (Mn257.6nm로 측정, 상관계수 ≥ 0.9996), 증명 자료 제공.

내부 첨자 보정: 내부 첨자 및 측정 요소가 동시에 노출되어야 하는 내부 첨자 보정

정밀도: 1ppm 또는 10ppm 다원소 혼합 표준 용액을 측정하고 RSD ≤ 0.5% 를 10회 반복 측정한다.

안정성: 1ppm 또는 10ppm 다원소 혼합 표준 용액을 측정하고, 내표 보정을 사용하지 않으며, 4시간 연속 장시간 안정성 RSD<1.0%를 측정한다.