디지털 pH/ORP 콤보 전극
메모센스 CPS76E

화학 공정 및 유독성 매체 측정을 위한 Memosens 2.0 콤보 전극

E+H CPS76ES 수질분석 pH/ORP 전극

각종 응용 중의 액체 분석

액체 분석에서 다양한 매개변수 측정을 위한 완전한 제품군

환경 보호, 안정적인 제품 품질, 프로세스 최적화 및 보안 – 액체 분석의 중요한 부분일 뿐입니다.물, 음료, 유제품, 화학품, 약품 등 액체 분석은 이미 일상적인 일이 되었다.우리는 당신에게 실제 응용 경험과 좋은 측정 기술을 제공하여 당신의 측정 임무를 완성합니다.전체 제품군에서 적합한 계기를 선택하여 사용자의 과정 수요를 만족시킵니다.

Memosens CPS76E는 pH와 ORP 측정을 동시에 수행할 수 있는 가혹한 공정 측정 전문가입니다.오염 방지형 비교 시스템은 심각한 오염 매체와 낮은 전도도 매체를 안정적으로 측정한다.CPS76E는 Memosens 2.0 디지털 기술을 사용하여 프로세스 무결성이 높고 조작이 매우 간단합니다.방수 방습 설계, 실험실 센서 측정 허용, 확장 데이터 저장 지원, 측정 매개변수 및 프로세스 매개변수 저장.사전 유지 관리 구현의 토대입니다.

우위
Memosens 2.0은 확장 스토리지 유닛을 지원하고, 측정 매개변수와 프로세스 매개변수를 저장하여 추세 인식을 더 잘 할 수 있으며, 향후 사전 유지 보수 및 IIoT 산업 사물 인터넷 서비스 개선을 위한 기초를 제공할 수 있다.

pH, ORP 및 rH 값 (rH 모드에서) 을 동시에 측정하여 풍부한 프로세스 정보를 제공할 수 있으며 엄격한 프로세스 제어의 견고한 기초입니다.

벨트 압력 비교 시스템을 선택할 수 있으며, 분산액과 같은 쉽게 막히는 매체를 안정적으로 측정할 수 있다.

전극대 전용 이온 포착 함정은 지시선과 비교 시스템의 독성 확산을 효과적으로 방지하고 긴 사용 수명을 확보한다.

전극의 역조립을 허용하여 설치가 유연하다.

비접촉식 감응 신호 전송 방식을 채택하여 높은 과정 안전성을 가지고 있다.

생산 중단 시간을 최소화하고 전극 수명을 연장하며 운영 비용을 절감할 수 있습니다.E+H CPS76ES 수질분석 pH/ORP 전극

IIoT 산업 사물 인터넷 지원: Memosens 2.0은 확장 스토리지 유닛을 지원하고, 측정 매개변수와 프로세스 매개변수를 저장하며, 추세 인식을 더 잘 하고, 향후 IIoT 산업 사물 인터넷 서비스를 사전 유지 관리하고 개선할 수 있는 기반을 제공한다.

낮은 사용 비용: 실험실 표준을 지원하며, 현장에서 온라인으로 전극을 빠르게 교체하여 생산 중단 시간을 최소화하고 전극의 수명을 연장합니다.

견고하고 내구성이 낮으며 유지보수 수요가 낮은 전극: 장독성 확산 경로 또는 최적화된 이온 포착 함정으로 전극의 독성 확산을 참고하지 않습니다.대면적의 오염방지형 PTFE 분리막으로 매체에 오염되지 않도록 한다.

유리 전극은 전체 pH 측정 범위 내에서 과정의 절대 압력이 17bar(246.5psi)를 초과하지 않는 조건에서 측정할 수 있다.불산이 함유된 매체에서 측정할 때 F형 유리 전극, 예를 들어 반도체 생산에서의 식각 슬롯을 선택할 수 있다.

향상된 염교 옵션 기능은 낮은 전도도 응용 프로그램에서 보일러 급수 측정과 같은 신뢰할 수 있는 측정을 보장합니다.

비접촉식 감응 신호 전송 방식을 채택하여 높은 과정 신호 완전성을 가지고 있다.

응용 분야
화학 공정 및 프로세스 모니터링:

pH 또는 ORP 값의 빠른 변동

H2S와 같은 고농도 독성 매체

ATEX, IECEx, CSA C/US, NEPSI, JPN, INMETRO 인증을 통해 방폭 0존, 1존, 2존에서 사용할 수 있다.E+H CPS76ES 수질분석 pH/ORP 전극

제품 사양 매개 변수

• 측정 범위

  ORP: -1 500 ~ 1 500 mV
  응용 프로그램 B
  • pH: 0 ~ 14
  응용 프로그램 H
  • pH: 0 ~ 12

• 프로세스 온도

  신청 B 및 H:
  0 ~ 140 ° C (32 ~ 284 ° F)
  버전 TB:
  0 ~ 140 ° C (32 ~ 284 ° F)
  버전 TU, TP (압력 참조):
  0 ~ 140 ° C (32 ~ 284 ° F) (살균을 위한 140 ° C (284 ° F)만)
  증가로 인해 지속적인 작동에서 최대 100 ° C (212 ° F)
  T>에 압력 하락 100 ° C (212 ° F)

• 프로세스 압력

  응용 프로그램 B: 0.8에서 14 바 (11.6에서 203 psi) 절대
  응용 프로그램 H: 0.8에서 7 바 (11.6에서 101,5 psi) 절대

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